真空镀膜工艺原理是什么？帮忙解答一下-如意宝知识分享

真空镀膜工艺中常用的方法有真空蒸发和离子溅射.真空蒸发镀膜是在真空度不低于 10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜.离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜.
真空镀膜工艺就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
真空镀膜工艺主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种分类。 1.蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。 2.溅射镀膜：用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。 3.离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。

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