真空镀膜工艺中电阻蒸发镀:电阻蒸发源用于蒸发低熔点材料,如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等。电阻蒸发源一般采用钨、钼、钽制作。电子束蒸发镀:利用电子束加热使膜材汽化蒸发后,凝结在基片表面成膜是真空蒸镀技术中一种重要的加热方法。这种装置的种类很多。随着薄膜技术的广泛应用,不但对膜的种类要求繁多,而且对膜的质量要求更加严格。高频感应加热蒸发镀:利用感应加热原理把金属加热到蒸发温度。将装有膜层材料的坩埚放在螺旋线圈的中央(非接触),在线圈中通以高频电流,可以使金属膜层材料产生电流将自身加热升温,直至蒸发。电弧加热蒸发镀:与电子束加热方式相类似的一种加热方式是电弧放电加热法。它也具有可以避免电阻加热材料或坩埚材料的污染,加热温度较高的特点,特别适用 于熔点高,同时具有一定导电性的难熔金属、石墨等的蒸发。
真空镀膜工艺主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。真空镀膜工艺的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜工艺就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
器件光刻工艺步骤?在线等
器件光刻的优点是它可以精i确地控制形成图形的形状、大小,此外它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。不过,其主要缺点在于它必须在平面上使用,在不平的表面上它的效果要差一些。此外它还要求衬底具有极高的清洁.. 全文
EB真空镀膜的镀膜方法有几种? 有谁可以回答一下吗?
EB真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射.真空蒸发镀膜是在真空度不低于 10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面.. 全文
网友们请赐教!图形光刻的优点与缺点?
“图形光刻适用范围: 1、 各种金属零件加工; 2、 钣金、箱体、金属结构; 3、 钛合金、高温合金、非金属等机械加工; 4、 风洞燃烧室设计制造; 5、 非标设备设计制造。“ 全文
谁能帮助我!磁控溅射真空镀膜的镀膜方法有几种?
磁控溅射真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射.真空蒸发镀膜是在真空度不低于 10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过.. 全文
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