如意信息网 - 商盟推荐
当前位置:商盟推荐首页 > 知识分享 > 谁能帮助我!接触式光刻有什么优点和缺点?
谁能帮助我!接触式光刻有什么优点和缺点?
  • 接触式光刻是指集成电路制造中利用光学—化学反应原理和 化学,物理刻蚀法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。光刻是集成电路工艺中的关键性技术,其构想源自于印刷技术中的照相制版技术。光刻技术的发展使得图形线宽不断缩小,集成度不断提高,从而使得器件不断缩小,性能也不断提利用高。还有大面积的均匀曝光,提高了产量,质量,降低了成本。

  • 接触式光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺在此之后,晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。被除去的部分可能形状是薄膜内的孔或是残留的岛状部分。

  • 接触式光刻工艺的要求:光刻工具具有高的分辨率;光刻胶具有高的光学敏感性;准确地对准;大尺寸硅片的制造;低的缺陷密度。

主营业务:深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻

更多内容
更多>

精选分享

本页面所展示的信息由企业自行提供,内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责如意信息网行业资讯对此不承担直接责任及连带责任。

本网部分内容转载自其他媒体,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性。不承担此类 作品侵权行为的直接责任及连带责任。