半导体微纳加工是指制造特征尺寸以纳米为单位的结构,尤其是侧面小于20纳米的结构。目前的技术大多只允许在二维意义上进行微纳加工。
半导体微纳加工MEMS微纳加工是用传统的半导体工艺和材料,以半导体制造技术为基础发展起来的一种先进的制造技术,学科交叉现象极其明显,主要涉及微加工技术,机械学/固体声波理论,热流理论,电子学、材料、物理学、化学、生物学、医学等等。经过四十多年的发展,已成为世界瞩目的重大科技领域之一。
半导体微纳加工大致可以分为“自上而下”和“自下而上”两类。“自上而下”是从宏观对象出发,以光刻工艺为基础,对材料或原料进行加工,zui小结果尺寸和精度通常由光刻或刻蚀环节的分辨力决定。“自下而上”技术则是从微观世界出发,通过控制原子、分子和其他纳米对象的相互作用力将各种单元构建在一起,形成微纳结构与器件。
大神赐教!接触式光刻的适用范围?
接触式光刻的加工特点:1、各向异性刻蚀,即只有垂直刻蚀,没有横向钻蚀。这样才能保证精i确地在被刻蚀的薄膜上复i制出与抗蚀剂上完全一致的几何图形。2、良好的刻蚀选择性,即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另.. 全文
网友们请赐教!光刻技术一般需要多少钱? 感谢回答
选择光刻技术价格只是购买产品或服务过程中的一项指标,如果单纯只比较价格,其实考虑并不是那么周到。价格、质量、服务、评价、是否合适自己的情况等都需要一起考虑。 全文
半导体光刻工艺步骤?教期待大神解答
“半导体光刻适用范围: 1、 各种金属零件加工; 2、 钣金、箱体、金属结构; 3、 钛合金、高温合金、非金属等机械加工; 4、 风洞燃烧室设计制造; 5、 非标设备设计制造。“ 全文
各位大佬谁清楚,紫外光刻有什么优点和缺点?
紫外光刻工艺的要求:光刻工具具有高的分辨率;光刻胶具有高的光学敏感性;准确地对准;大尺寸硅片的制造;低的缺陷密度。 全文
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出口氧气钢瓶在储存的时候,切记空瓶与实瓶需要实行分开。氧气瓶库应该符合《建筑设计防火规范》。氧气瓶库.....
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