微流控光刻光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
微流控光刻技术在广义上,它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。光复印工艺是经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置,精i确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。刻蚀工艺是利用化学或物理方法,将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去,从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的,因而光刻工艺总是多次反复进行。
微流控光刻的加工特点:1、各向异性刻蚀,即只有垂直刻蚀,没有横向钻蚀。这样才能保证精i确地在被刻蚀的薄膜上复i制出与抗蚀剂上完全一致的几何图形。2、良好的刻蚀选择性,即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一层薄膜或材料的刻蚀速率都比被刻蚀薄膜的刻蚀速率小得多,以保证刻蚀过程中抗蚀剂掩蔽的有效性,不致发生因为过刻蚀而损坏薄膜下面的其他材料。3、加工批量大,控制容易,成本低,对环境污染少,适用于工业生产。
曝光光刻是什么? 有谁可以回答一下吗?
曝光光刻的优点是它可以精i确地控制形成图形的形状、大小,此外它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。不过,其主要缺点在于它必须在平面上使用,在不平的表面上它的效果要差一些。此外它还要求衬底具有极高的清洁.. 全文
光刻制作是干什么的? 有懂行的吗?
光刻制作工艺步骤:一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准 曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。工艺过程:一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、.. 全文
请问:真空镀膜加工的适用范围有哪些?
真空镀膜加工在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的.. 全文
帮个忙,有了解微纳光刻加工价格的吗?
感谢邀请回答,对于微纳光刻加工多少钱这个问题,我的回答是你可以先找几个厂家咨询一下微纳光刻加工要多少钱,通过多个厂家进行咨询来了解微纳光刻加工的大概价位,然后再挑选比较好的厂家进行合作,毕竟还是要看的.. 全文
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