“贵金属真空镀膜原理: 1、物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。 2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,借助气相作用或基体表面上的化学反应,在基体上制出金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
“贵金属真空镀膜适用范围: 1、建筑五金:卫浴五金、门锁、门拉手、卫浴、门锁、五金合叶、家具等。 2、制表业:可用于表壳、表带的镀膜、水晶制品。 3、其它小五金:皮革五金、不锈钢餐具、眼镜框、刀具、模具等。 4、大型工件:汽车轮毂、不锈钢板、招牌、雕塑等。 5、不锈钢管和板(各种类型表面)。 6、家具、灯具、宾馆用具。 7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器血等五金制品镀超硬装饰膜。 8、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超耐磨装饰(金银)纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜。
贵金属真空镀膜在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。
敢问大家,光刻技术是什么?
光刻适用范围: 1、 各种金属零件加工; 2、 钣金、箱体、金属结构; 3、 钛合金、高温合金、非金属等机械加工; 4、 风洞燃烧室设计制造; 5、 非标设备设计制造。 全文
敢问大家,MEMS光刻工艺是什么? 有懂行的吗?
MEMS光刻的优点是它可以精i确地控制形成图形的形状、大小,此外它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。不过,其主要缺点在于它必须在平面上使用,在不平的表面上它的效果要差一些。此外它还要求衬底具有极高的.. 全文
请问:芯片光刻技术是什么?大家可以说一下吗?
芯片光刻技术工艺的要求:光刻工具具有高的分辨率;光刻胶具有高的光学敏感性;准确地对准;大尺寸硅片的制造;低的缺陷密度。 全文
帮忙一下,光刻芯片的优点? 有懂行的吗?
光刻芯片光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属.. 全文
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夏季加以适当的遮盖,需要防止日光曝晒;车上严禁烟火。在短距离移动气瓶的时候,使用专用小车;人工在搬运.....
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用量和周转量的情况之下,应该尽量来减少储存量。在设立专人的负责氧气瓶管理的工作。仓库管理员是负责氧气.....
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出口氧气钢瓶在储存的时候,切记空瓶与实瓶需要实行分开。氧气瓶库应该符合《建筑设计防火规范》。氧气瓶库.....
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在选择和确定结构形式和构件截面时,亦应从提高综合经挤效益出发,不宜由于某一种构件的得失而影响总的经济.....
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