各位大佬谁清楚,微纳光刻优点与缺点有什么？大家推荐一下-如意宝知识分享

我们所知的微纳光刻工艺的流程为：涂胶→前烘→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。
“微纳光刻适用范围： 1、各种金属零件加工； 2、钣金、箱体、金属结构； 3、钛合金、高温合金、非金属等机械加工； 4、风洞燃烧室设计制造； 5、非标设备设计制造。“
微纳光刻光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。

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