“电极真空镀膜主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种分类。 1.蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。 2.溅射镀膜:用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。 3.离子镀:蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。
电极真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射.真空蒸发镀膜是在真空度不低于 10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜.离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜.
电极真空镀膜在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。
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光刻定制的加工特点:1、各向异性刻蚀,即只有垂直刻蚀,没有横向钻蚀。这样才能保证精i确地在被刻蚀的薄膜上复i制出与抗蚀剂上完全一致的几何图形。2、良好的刻蚀选择性,即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一.. 全文
帮个忙,什么叫真空镀膜工艺呢? 还请不吝赐
真空镀膜工艺就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。 全文
求帮助!真空镀膜工艺原理是什么?
真空镀膜工艺原理: 1、物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。 2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化.. 全文
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半导体微纳加工指尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用技术,涉及领域广、多学科交叉融合,其zui主要的发展方向是微纳器件与系统(MEMS和.. 全文
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