真空镀膜服务在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。
真空镀膜服务就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
“真空镀膜服务主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种分类。 1.蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。 2.溅射镀膜:用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。 3.离子镀:蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。“
真空镀膜工艺的分类?哪位大神能告诉我?
真空镀膜工艺主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种分类。 1.蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。 2.溅射镀膜:用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表.. 全文
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