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光刻技术的优点是它可以精i确地控制形成图形的形状、大小，此外它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。不过，其主要缺点在于它必须在平面上使用，在不平的表面上它的效果要差一些。此外它还要求衬底具有极高的清洁条件。
光刻技术是指集成电路制造中利用光学—化学反应原理和 化学，物理刻蚀法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。光刻是集成电路工艺中的关键性技术，其构想源自于印刷技术中的照相制版技术。光刻技术的发展使得图形线宽不断缩小，集成度不断提高，从而使得器件不断缩小，性能也不断提利用高。还有大面积的均匀曝光，提高了产量，质量，降低了成本。
光刻技术光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
主营业务：深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻
有谁知道：真空镀膜技术的适用范围有哪些？
真空镀膜技术中电阻蒸发镀：电阻蒸发源用于蒸发低熔点材料，如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等。电阻蒸发源一般采用钨、钼、钽制作。电子束蒸发镀：利用电子束加热使膜材汽化蒸发后，凝结在基片表面成膜是真空.. 全文
谁能回答！器件光刻工艺的步骤？
器件光刻的加工特点：1、各向异性刻蚀，即只有垂直刻蚀，没有横向钻蚀。这样才能保证精i确地在被刻蚀的薄膜上复i制出与抗蚀剂上完全一致的几何图形。2、良好的刻蚀选择性，即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一.. 全文
谁能回答！PECVD真空镀膜一般多少钱？
负责任的PECVD真空镀膜厂家在没有了解你的具体需求之前，是报不出你想要的价格，也就是报出他标准配置的价格。如果你购买的多可以直接联系客服要报价。 全文
麻烦请教各位！光刻制作一般价格多少？ 急需赐教
一分钱一分货，大家在选购光刻制作时，不能只考虑到价格低，还是综合考虑光刻制作的功能、售后服务等，尽可能多咨询多对比，在能力范围内选择适合自己发展 全文
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