真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
真空镀膜主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种分类。 1.蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。 2.溅射镀膜:用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。 3.离子镀:蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。
真空镀膜原理: 1、物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。 2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,借助气相作用或基体表面上的化学反应,在基体上制出金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
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