帮个忙，真空镀膜技术的原理？急！急！急！-如意宝知识分享

真空镀膜技术简单地来说就是在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层。它的主要方法包括以下几种：真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀膜、真空卷绕镀膜。
真空镀膜技术主要原理分成蒸发和溅射两种。主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子戕加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。具体应用范围：小到皮革五金、电子芯片、不锈钢餐具；大到汽车轮毂、航天飞机都要用到真空镀膜机。
真空镀膜技术就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

更多内容

敢问大家，芯片光刻的适用范围？求解答

芯片光刻技术在广义上，它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。光复印工艺是经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精i确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。刻蚀工艺是利用化.. 全文
光刻定制大概价格需要多少？在线等

这个问题要怎么回答呢，因为我也不是很了解光刻定制这个产品的，但是大概知道它是有什么干什么用的，但是具体价格的话，你可以去网上找一下看看的，现在网上信息数据整理的很快的，你去网上搜一下就会有很多的。你购.. 全文
楼主请问：MEMS光刻加工的特点？

MEMS光刻的优点是它可以精i确地控制形成图形的形状、大小，此外它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。不过，其主要缺点在于它必须在平面上使用，在不平的表面上它的效果要差一些。此外它还要求衬底具有极高的.. 全文
半导体光刻技术有哪些优点和缺点？求解答

半导体光刻技术的加工特点：1、各向异性刻蚀，即只有垂直刻蚀，没有横向钻蚀。这样才能保证精i确地在被刻蚀的薄膜上复i制出与抗蚀剂上完全一致的几何图形。2、良好的刻蚀选择性，即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下.. 全文

更多>

敢问大家，芯片光刻的适用范围？求解答