另一方面,在制品内部会出现黑心。这是在氧化性气氛不足时,大量碳化硅的存在造成内部呈还原性气氛而发生下列反应:SiC+O2→SiO2+CSiC+2CO→SiO2+C因此,为防止制品上白色沉积物及内部黑心,在装砖时应保证留有足够的火焰通道,并避免在强还原气氛下烧成。当窑内氧分压过高时,在烧成过程中砖坯表面SiC会严重氧化,形成一层带有杂质相的釉层,严重影响材料的外观和高温使用性能。
碳化硅属于容易被氧化的材料,而结合相SiO2需要在有氧存在的情况下才能充分发挥气节和性能。这就要求在烧制过程中的不同温度段适时调整窑内气氛。窑内氧含量不足时,一方面在制品表面甚至薄壁制品的内部形成白色沉淀物,这是由于SiC不充分氧化生成SiO,挥发到制品表面在氧化出SiO2沉积下来,这样破坏了制品内碳化硅结构(一部分挥发后形成空洞)。
碳化硅的硬度zui高可以达到2800kg/mm²,抗压强度高达2900MPa,是目前可以应用在实际工程中硬度zui好的材料,其硬度比碳化钨高50%。碳化硅可以做成不使用任何浸渍体的密封体,因此即便在极端高温和高压的条件下,也具有chao强的耐磨性和完全的不渗透性,允许介质高速通过,且热交换率高。而且高硬度意味着在高纯应用中不会污染介质。在有色冶金行业的燃烧炉中,碳化硅可以作为喷嘴材料,克服传统金属材料高温条件下硬度较差、容易变形、耐磨性差的问题。
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