<div style="text-align:center;margin:5px 0;"><img src="https://upimg300.dns4.cn/pic/116593/p54/20240424092131_9969_zs.jpg" data-ke-src="https://upimg300.dns4.cn/pic/116593/p54/20240424092131_9969_zs.jpg"></div><div style="text-align:center;margin:5px 0;"><img src="https://upimg300.dns4.cn/pic/116593/p54/20240424092332_4555_zs.png" data-ke-src="https://upimg300.dns4.cn/pic/116593/p54/20240424092332_4555_zs.png"></div><p style="line-height:2;font-size:16px;">四甲基氢氧化铵（TMAH）是一种化学物质，具有较强的腐蚀性。其分子式是C4H13NO，即氢氧化铵的四个氢离子被甲基取代后形成的化合物具有一个强碱性的OH根团和TMA+阳离子部分。以下是对该化合物的优缺点的分析：</p><p style="line-height:2;font-size:16px;">优点</p><p style="line-height:2;font-size:16px;">*化学性质稳定：优秀的热稳定性使其具有高度可靠性；在不超过分解温度时非常稳定且易于去除、不留残渣污染产品。。*溶解性强：作为极性溶剂中的碱性试剂能够有效地溶解大多数有机物,在许多情况下可以代替无机盐或醇类使用。此外它还可以用作酸性催化剂的优良来源以及极谱试剂等..</p><p style="line-height:2;font-size:16px;">*应用广泛多样:在染料生产领域有着广泛应用;也常用于医药及农药制造过程之中;还可用作磺酸型交换树脂合成原料、电镀工业阳极活化剂和除去过氧化物的添加剂；在分析方面用于提纯金属元素以及在有机硅片生产中常用到光亮清洗触刻等方面上等等......同时它还是半导体工艺中常用的蚀刻板正胶显影液之一，与CMOS工艺兼容并推动SOC发展趋势的实现者呢！</p>