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请问谁知道:图形光刻优点与缺点有什么?
  • “图形光刻适用范围: 1、 各种金属零件加工; 2、 钣金、箱体、金属结构; 3、 钛合金、高温合金、非金属等机械加工; 4、 风洞燃烧室设计制造; 5、 非标设备设计制造。“

  • 我们所知的图形光刻工艺的流程为:涂胶→前烘→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。

  • 图形光刻的优点是它可以精i确地控制形成图形的形状、大小,此外它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。不过,其主要缺点在于它必须在平面上使用,在不平的表面上它的效果要差一些。此外它还要求衬底具有极高的清洁条件。

主营业务:深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻

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