微流控真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。微流控真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
“微流控真空镀膜主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种分类。 1.蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。 2.溅射镀膜:用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。 3.离子镀:蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。
微流控真空镀膜主要原理分成蒸发和溅射两种。主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子戕加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。具体应用范围:小到皮革五金、电子芯片、不锈钢餐具;大到汽车轮毂、航天飞机都要用到真空镀膜机。
哪位知道反射溅射真空镀膜的功能有哪些?
反射溅射真空镀膜在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂.. 全文
真空镀膜工艺的分类?哪位大神能告诉我?
真空镀膜工艺主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种分类。 1.蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。 2.溅射镀膜:用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表.. 全文
光刻工艺的原理?教期待大神解答
我们所知的光刻工艺工艺的流程为:涂胶→前烘→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。 全文
谁能帮助我!磁控溅射真空镀膜的适用范围有哪些?有人知道吗?
磁控溅射真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。 全文
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