微流控光刻工艺要求？有谁可以回答一下吗？-如意宝知识分享

“微流控光刻适用范围： 1、各种金属零件加工； 2、钣金、箱体、金属结构； 3、钛合金、高温合金、非金属等机械加工； 4、风洞燃烧室设计制造； 5、非标设备设计制造。“
微流控光刻工艺步骤：一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。工艺过程：一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。
微流控光刻工艺的要求：光刻工具具有高的分辨率；光刻胶具有高的光学敏感性；准确地对准；大尺寸硅片的制造；低的缺陷密度。

更多内容

真空镀膜工艺的适用范围有哪些？拜托了帮个忙

真空镀膜工艺简单地来说就是在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层。它的主要方法包括以下几种：真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀膜、真空卷绕.. 全文
帮忙一下，氮化镓材料刻蚀加工要多少钱？有人知道吗？

选择氮化镓材料刻蚀加工价格只是购买产品或服务过程中的一项指标，如果单纯只比较价格，其实考虑并不是那么周到。价格、质量、服务、评价、是否合适自己的情况等都需要一起考虑。全文
有谁知道：紫外光刻的适用范围？

紫外光刻工艺步骤：一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。工艺过程：一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、.. 全文
有谁知道：ITO镀膜真空镀膜原理是什么？

ITO镀膜真空镀膜简单地来说就是在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层。它的主要方法包括以下几种：真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀膜、真.. 全文

更多>

真空镀膜工艺的适用范围有哪些？拜托了帮个忙