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数字光刻技术在广义上，它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。光复印工艺是经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精i确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。刻蚀工艺是利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺总是多次反复进行。
数字光刻适用范围： 1、 各种金属零件加工； 2、 钣金、箱体、金属结构； 3、 钛合金、高温合金、非金属等机械加工； 4、 风洞燃烧室设计制造； 5、 非标设备设计制造。
数字光刻工艺是利用类似照相制版的原理，在半导体晶片表面的掩膜层上面刻蚀精细图形的表面加工技术。也就是使用可见光和紫外光线把电路图案投影“印刷”到覆有感光材料的硅晶片表面，再经过蚀刻工艺去除无用部分，所剩就是电路本身了。光刻工艺的流程中有制版、硅片氧化、涂胶、曝光、显影、腐蚀、去胶等。
主营业务：深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻
麻烦请教各位！真空镀膜技术原理是什么？
真空镀膜技术主要原理分成蒸发和溅射两种。主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子戕加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多.. 全文
有谁知道：ITO镀膜真空镀膜的优点有哪些？
ITO镀膜真空镀膜简单地来说就是在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层。它的主要方法包括以下几种：真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀膜、真.. 全文
半导体光刻技术有哪些优点和缺点？求解答
半导体光刻技术的加工特点：1、各向异性刻蚀，即只有垂直刻蚀，没有横向钻蚀。这样才能保证精i确地在被刻蚀的薄膜上复i制出与抗蚀剂上完全一致的几何图形。2、良好的刻蚀选择性，即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下.. 全文
在线的各位知道吗，半导体光刻工艺步骤？ 帮忙解答一下
半导体光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。被除去的部分可能形状是薄膜内的孔或是残留的岛状部分。 全文
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选购防火门的三点注意事项一、对数字防火门合格产品的外形尺寸应小于等于样品描述中的外形尺寸，门扇厚度应.....
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防火门如何选择1、钢木质和木质在防火方面是差不多的,没有好坏之分,只要是同等的级别,作用是一样的 2.....
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用量和周转量的情况之下，应该尽量来减少储存量。在设立专人的负责氧气瓶管理的工作。仓库管理员是负责氧气.....
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出口氧气钢瓶在储存的时候，切记空瓶与实瓶需要实行分开。氧气瓶库应该符合《建筑设计防火规范》。氧气瓶库.....
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