真空镀膜加工简单地来说就是在真空环境下,利用蒸发、溅射等方式发射出膜料粒子,沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层。它的主要方法包括以下几种:真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀膜、真空卷绕镀膜。
真空镀膜加工主要原理分成蒸发和溅射两种。主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子戕加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。具体应用范围:小到皮革五金、电子芯片、不锈钢餐具;大到汽车轮毂、航天飞机都要用到真空镀膜机。
真空镀膜加工中常用的方法有真空蒸发和离子溅射.真空蒸发镀膜是在真空度不低于 10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜.离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜.
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