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谁能回答！真空镀膜对蒸发源的材料要求有哪些? 十万火急！

  • 真空镀膜在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。

  • 真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

  • 真空镀膜适用范围： 1、建筑五金：卫浴五金、门锁、门拉手、卫浴、门锁、五金合叶、家具等。 2、制表业：可用于表壳、表带的镀膜、水晶制品。 3、其它小五金：皮革五金、不锈钢餐具、眼镜框、刀具、模具等。 4、大型工件：汽车轮毂、不锈钢板、招牌、雕塑等。 5、不锈钢管和板（各种类型表面）。 6、家具、灯具、宾馆用具。 7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器血等五金制品镀超硬装饰膜。 8、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超耐磨装饰（金银）纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜。

主营业务：深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻

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