超高纯水设备的主要用途：电解电容器生产铝箔及工作件的清洗、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制、集成电路生产中高纯水清洗硅片、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高i品质显像管、萤光粉生产、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料、实验室和中试车间、汽车、家电表面抛光处理光电产品、其他高科技精微产品

“超高纯水设备特点： 1、水进入医i药用高纯水设备系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。 2、树脂截留水中的溶存离子。 3、被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。 4、阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外。 5、阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外。 6、浓缩了的离子从废水流路中排出。 7、无离子水从树脂/膜内流出。

“超高纯水设备主要用途有： 1、电子产品的生产和清洗，如手机、电脑、平板等电子设备在生产过程中清洗水。 2、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。 3、电池产品的生产，电池在生产过程中部分工序需要用到的水。 4、电路板的生产和清洗，电脑、手机中的电路板在生产和清洗过程中所需要的水。 5、半导体产品的生产和清洗。 6、其他高科技精细产品的生产和清洗。