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电容式触摸屏的ITO区别在哪里

在激光加工方式中，大尺寸的ITO 膜一般采用矢量图形激光切割ITO 层的方式加工，小尺寸的除了采用矢量切割方式外，也有人使用振镜式图形点阵激光扫描雕刻方式进行快速加工
功能问题，功能问题主要分为三种：一，由于ITO刻断引起的局部或整条通道的点触失效；二，由于银浆断线搭线造成的功能不良；三，由于蚀刻膏或耐酸渗透和图案变形或是制程中造成ITO方阻变化过大引起的容值偏差，即容值的均匀性偏差，从而造成功能不良。要解决这三个问题，说起来很简单，实际运作中ren重而道远，一则需要对蚀刻膏或是耐酸有一个有效的监控方式，二则需要银浆印刷时控制断线和毛刺，三则需要在制程中监控ITO方阻的变化，监测ITO的端电阻
ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率。在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率zui高和导电性能zui好,而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形.其中透光率达90%以上,ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例来控制,通常Sn2O3:In2O3=1:9,多用于触控面板、触摸屏、冷光片等

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